La reazione del fenolo su Mo(110) è stato studiato mediante programmazione della temperatura di reazione e di fotoelettronica a raggi X spettroscopie. Dopo il desorbimento di multistrati e una specie molecolare debolmente legata, la decomposizione produce gli unici prodotti di reazione osservati: diidrogeno gassoso, carbonio superficiale e ossigeno superficiale. Il legame O-H si scinde prima a temperature inferiori a 360 K per formare fenossido di superficie (C6H5O-), seguito dall’attivazione del legame C-H che inizia a 370 K. I legami C-O vengono scissi nell’intervallo di temperatura da 370 a 450 K. Dopo la ricottura a 300 K, più specie vengono rilevate sulla superficie mediante spettroscopia fotoelettronica a raggi X. Si pensa che la scissione dei legami C-H nello stesso regime di temperatura dei legami C-O porti alla decomposizione selettiva del fenolo su Mo(110). La reazione del fenolo è contrastata con quella di un analogo contenente zolfo, il benzenetiolo, sulla superficie Mo(110). La stabilità dell’intermedio fenossido rispetto alla scissione del legame carbonio-eteroatomo è maggiore di quella del corrispondente tiolato fenilico formato da benzenetiolo. Il confronto della reazione di fenolo e benzenetiolo dimostra l’importanza della forza di legame C-X (X = O,S) nel determinare la reattività e la selettività di queste molecole.