Surface science lettersCarbon-happi-sidoksen lujuus reaktiokinetiikan säätelynä: fenoli Mo(110)

fenolin reaktiota Mo(110) on tutkittu lämpötilaohjelmoiduilla reaktioilla ja Röntgenvaloelektronispektroskopioilla. Monikerroksisten ja heikosti sitoutuneiden molekyylilajien desorption jälkeen hajoaminen tuottaa ainoat havaitut reaktiotuotteet: kaasudivety, pintahiili ja pintahappi. O-H-sidos pilkkoutuu ensin alle 360 K: n lämpötilassa muodostaen pinnan fenoksidia (C6H5O -), minkä jälkeen C-H-sidoksen aktivaatio alkaa 370 K: sta.C-O-sidokset pilkkoutuvat lämpötila-alueella 370-450 K. hehkutuksen jälkeen 300 K: iin havaitaan pinnalla useita lajeja Röntgenvaloelektronispektroskopialla. C-H-sidosten pilkkoutumisen samassa lämpötilajärjestelmässä kuin C-O-sidosten arvellaan johtavan fenolin selektiiviseen hajoamiseen Mo(110). Fenolin reaktio on vastakohta rikkipitoisen analogin, bentseenitiolin, reaktiolle Mo(110) – pinnalla. Fenoksidiväliaineen stabiilisuus hiili-heteroatomisidoksen pilkkoutumiseen nähden on suurempi kuin vastaavalla bentseenitiolista muodostuvalla fenyylitiolaatilla. Fenolin ja bentseenitiolin reaktion vertailu osoittaa C-X (X = O,s) – sidoksen vahvuuden merkityksen näiden molekyylien reaktiivisuuden ja selektiivisyyden määrittämisessä.

Vastaa

Sähköpostiosoitettasi ei julkaista.